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News
Nanotechnology Now - Press Release: World record in silicon...
www.nanotech-now.com
Prof. Joachim Burghartz Dr. Jörg Butschke und. Dr. Florian Letzkus Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS) , -453, -451
Netzwerk-Profile
BibSLEIGH — Joerg_Butschke
bibtex.github.io
Talks about: transistor (1) electron (1) flexibl (1) voltag (1) organ (1) low (1). Person: Joerg Butschke. DBLP: Butschke:Joerg. Contributed to: DATE
publications - Center for Solid State and New Materialswww.solid.ipb.ac.rs › people › radosgajic › publi...
www.solid.ipb.ac.rs
D. Braun, R. Gajic und F. Kuchar, R. Korntner, Jörg Butschke, Frank-Michael Kamm, "Spektroskopische Untersuchungen zu den thermischen Eigenschaften von ...
Business-Profile
patentbuddy: Jörg Butschke
INSTITUT FUR MIKROELEKTRONIK STUTTGART
Bücher
Handbook of Photomask Manufacturing Technology
liste.polymtl.ca
Joerg Butschke Institute for Microelectronics Stuttgart, Stuttgart, Germany. Dachen Chu Department of Electrical Engineering, Stanford University, Stanford, Cali-.
Handbook of Photomask Manufacturing Technology - Google Books
books.google.de
As the semiconductor industry attempts to increase the number of functions that will fit into the smallest space on a chip, it becomes increasingly important...
Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für
books.google.de
Title, Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für nanostrukturierte Silizium-Membranmasken. Author, Jörg Butschke. Published, Length, 142 pages. Export Citation, BiBTeX EndNote RefMan ...
Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für
books.google.de
Jörg Butschke pages. 0 Reviewshttp://books.google.com/books/ about/Die_SOI_Scheibe_der_Mikroelektronik_als.html?id=KJAYnwEACAAJ ...
Dokumente zum Namen
Fabrication of NIL templates and diffractive optical elements using...
www.deepdyve.com
Vistec SB4050 VSB e-beam writer. Joerg Butschke. *a. , Mathias Irmscher. a.
High-Efficient CMOS-Compatible Grating Couplers with Backside Metal...
opg.optica.org
... CMOS-Compatible Grating Couplers with Backside Metal Mirror. Wissem Sfar Zaoui, María Félix Rosa, Wolfgang Vogel, Manfred Berroth, Jörg Butschke, and ...
3D template fabrication process for the dual damascene NIL approach,...
www.deepdyve.com
NIL technique enables an easy replication of three dimensional patterns. Combined with a UV printable low-k material the NIL lithography can dramatically...
Dual Damascene - PDF documents
www.documbase.com
When cleaning wafers that use cu dual damascene interconnects, a whole host of problems can be encountered. these include the standard back end of
Veröffentlichungen allgemein
Jörg Butschke
spie.org
SPIE Profile of Jörg Butschke, IMS CHIPS. SPIE Profiles is a networking platform for optics and photonics professionals.
Artikel & Meinungen
Subwavelength Structures for Advanced Silicon Photonic Circuits
photonik.hs-harz.de
Prof. Dr.-Ing. Manfred Berroth. ‹Nr.› ITG PKM-Workshop © M.Berroth / INT. Subwavelength Structures for Advanced. Silicon Photonic Circuits. Manfred Berroth, Thomas Föhn, Wissem Sfar Zaoui,. Maria Felix Rosa, Niklas Hoppe, Wolfgang Vogel,. Jörg Butschke, Florian Letzkus, Mathias Kaschel. Universität ...
Sonstiges
DATE Proceedings - Table of Contents | DATE 2017
past.date-conference.com
... Ulrike Kraft, Kazuo Takimiya, Tarek Zaki, Florian Letzkus, Jörg Butschke, Harald Richter, Joachim N. Burghartz, Wei Xiong, Boris Murmann, Hagen Klauk ...
Determination of mask layer stress by placement metrology
www.spiedigitallibrary.org
SPIE Digital Library Proceedings
DataCite Search
search.datacite.org
... Mikroelektronik als neue Prozessbasis für nanostrukturierte Silizium Membranmasken. Jörg Butschke. doctoralThesis published via Universität Stuttgart. Vorgestellt wird ein Prozess zur Herstellung von strukturierten Silizium Membranmasken mit hoher Qualität auf Basis von kommerziell verfügbarem SOI Material.
Journals: Conference (reviewed): - PDF Free Download
docplayer.net
backside metal mirror Inventors: Wissem Sfar Zaoui, Manfred Berroth, Jörg Butschke, ...
Echelle grating for silicon photonics applications: integration of...
www.growkudos.com
Echelle grating for silicon photonics applications: integration of electron beam lithography in the process flow and first results. Mathias Kaschel, Florian Letzkus, Jörg Butschke, Piotr Skwierawski, Marc Schneider, Marc Weber. May 2016, SPIE; DOI: The author haven't yet claimed this publication.
Fig. 1 Citation Wissem Sfar Zaoui, Andreas Kunze Optics ImageBank
imagebank.osa.org
Citation. Wissem Sfar Zaoui, Andreas Kunze, Wolfgang Vogel, Manfred Berroth, Jörg Butschke, Florian Letzkus, Joachim Burghartz, "Bridging the gap between optical fibers and silicon photonic integrated circuits," Opt. Express 22, (2014); https://www.osapublishing.org/oe/abstract.cfm?URI=oe
Die SOI-Scheibe der Mikroelektronik als neue Prozessbasis für...
docplayer.org
Ing. Jörg Butschke geboren in Stuttgart Hauptberichter: Prof. Dr. rer. nat. B. Höfflinger Mitberichter: Prof. Dr.-Ing. H. Sandmaier Tag der mündlichen Prüfung: 21.
Fig. 4 Citation Wissem Sfar Zaoui, María Félix Rosa ...
imagebank.osa.org
Wissem Sfar Zaoui, María Félix Rosa, Wolfgang Vogel, Manfred Berroth, Jörg Butschke, Florian Letzkus, "Cost-effective CMOS-compatible grating couplers with ...
Si-EPIC Workshop: Silicon Nanophotonics Fabrication Fibre Grating...
hobbydocbox.com
... with backside metal mirror and 69% coupling efficiency Wissem Sfar Zaoui, 1,* María Félix Rosa, 1 Wolfgang Vogel, 1 Manfred Berroth, 1 Jörg Butschke, 2 and.
SpringerCitations - Details Page
citations.springernature.com
Ute Zschieschang, Robert Hofmockel, Reinhold Rödel, Ulrike Kraft, Myeong Jin Kang, Kazuo Takimiya, Tarek Zaki, Florian Letzkus, Jörg Butschke, Harald ...
Template manufacturing for nanoimprint lithography using ...doi.org › ...
www.spiedigitallibrary.org
Mathias Irmscher, Joerg Butschke, Florian Letzkus, Holger Sailer, Anatol Schwersenz. IMS Chips (Germany). Guenter Hess, Markus Renno. SCHOTT Lithotec ...
Detailanzeige der Metadaten - Open Access Netzwerk (OAN)
oansuche.open-access.net
Jörg Butschke. Publisher/Institution: Universität Stuttgart; Wissenschaftliche Einrichtungen in Verbindung mit der Universität Stuttgart. Institut für Mikroelektronik ...
Silizium-Photonik: Integriertes Sensorkonzept für die Detektion von...
www.vde-verlag.de
MikroSystemTechnik Kongress 2015; Silizium-Photonik: Integriertes Sensorkonzept für die Detektion von Gasen und Flüssigkeiten
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