Lukas Bahrenberg und Euv - Info zur Person

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Table-Top EUV and Soft X-Ray Microscopy Wiley Analytical Science

analyticalscience.wiley.com

— Lukas Bahrenberg Aleksey Maryasov Dr. Serhiy Danylyuk Prof. Dr. Peter Loosen Prof. Dr. Larissa Juschkin RWTH Aachen University, Germany http ...

Rigorose optische Simulationen im EUV für die Halbleitertechnik

www.ilt.fraunhofer.de

Lukas Bahrenberg M.Sc. Telefon + de Dr. Serhiy Danylyuk Telefon + de RIGOROSE OPTISCHE SIMULATIONEN IM EUV FÜR DIE HALBLEITERTECHNIK 4

Spectroscopic EUV reflectometry for the characterization

www.ilt.fraunhofer.de

Lukas Bahrenberg M.Sc. Telephone + de Dr. Serhiy Danylyuk Telephone + de SPECTROSCOPIC EUV REFLECTOMETRY FOR THE CHARACTERIZATION OF NANOSTRUCTURES Title ...

2020 EUVL Supplier ShowcaseEUV Litho

www.euvlitho.com

Lukas Bahrenberg, Sophia Schröder, Sascha Brose. RWTH Aachen University, Chair for Technology of Optical Systems , Aachen, Germany. TNO ...

Table-Top EUV and Soft X-Ray Microscopy - CORE

core.ac.uk

By Stefan Herbert, Lukas Bahrenberg, Aleksey Maryasov, Serhiy Danylyuk, Peter Loosen, Larissa ... OAI identifier: oai:publications.rwth-aachen.de:

Vorträge - Fraunhofer ILT

www.ilt.fraunhofer.de

– Lukas Bahrenberg: "Nanoscale grating characterization through EUV spectroscopy aided by machine learning techniques", SPIE Advanced Lithography 2020, San Jose, USA

2015 International Workshop on EUV Lithography - PDF Free Download

docplayer.net

... Jochen Vieker 2,Serhiy Danylyuk 3, Lukas Bahrenberg 3, Stefan Herbert 3, ... of EUV 3, 4 at RWTH Aachen University; 2,3,4 at , Aachen, Germany 10.

FRAUNHOFER-INSTITUT FÜR LASERTECHNIK ILT ...docplayer.org › Fraunhofer-institut-fuer-lasertechnik-ilt-j...

docplayer.org

Lukas Bahrenberg M.Sc. Telefon Dr. Serhiy Danylyuk Telefon Intensitätsverteilung der EUV-Emission: im Elektrodensystem für auf kurze Plasmen optimierte ...

Nanoscale grating characterization through EUV spectroscopy ...Semantic Scholar

www.semanticscholar.org

Lukas Bahrenberg, S. Glabisch, +5 authors. P. Loosen · Published in Advanced Lithography 20 March · Physics.

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