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News
Netzwerk-Profile
LinkedIn: Martin Kogelschatz | LinkedIn
Martin Kogelschatz' berufliches Profil anzeigen LinkedIn ist das weltweit größte professionelle Netzwerk, das Fach- und Führungskräften wie Martin Kogelschatz ...
LinkedIn: Martin Kogelschatz - Région de Lyon, France | Profil ...
Voir le profil professionnel de Martin Kogelschatz sur LinkedIn. Grâce à LinkedIn, le plus grand réseau professionnel au monde, les ...
LinkedIn: Martin Kogelschatz - Lyon Area, France | Professional Profile ...fr.linkedin.com › martin-kogelschatz-a22669
View Martin Kogelschatz's professional profile on LinkedIn. LinkedIn is the world's largest business network, helping professionals like Martin ...
Bassem Salem | AceMap
acemap.openacademic.ai
Si Nanowires, Alexis Potie, Thierry Baron, Florian Dhalluin, G Rosaz, Bassem Salem, Laurence Laturomain, Martin Kogelschatz Nanowire Based Transistor Method For Fabricating The Transistor Semiconductor Component incorporating The Transistor Computer Program and Storage Medium Associated With The ...
Business-Profile
Martin Kogelschatz Université Grenoble AlpesResearchGate
www.researchgate.net
Martin KOGELSCHATZ, Associate Professor | Cited by 490 | of Université Grenoble Alpes, Grenoble | Read 78 publications | Contact Martin KOGELSCHATZ.
Kogelschatz, Martin ( )
www.idref.fr
L’application IdRef permet d’interroger les autorités des bases Calames, Sudoc, STAR, STEP et Thèses.fr, d'enrichir et/ou de corriger des notices autorités...
Bücher
Bounds for the Frobenius root of non-negative matrices and an...
www.econbiz.de
Description. Cover Image. Bounds for the Frobenius root of non-negative matrices and an economic application. Hartmut Martin Kogelschatz. Year of Publication ...
Nano Lithography / Edition 1 by Stefan LandisBarnes & Noble
www.barnesandnoble.com
Karim AISSOU, Martin KOGELSCHATZ, Claire AGRAFFEIL, Alina PASCALE and Thierry BARON Block copolymers: a nano-lithography technique for tomorrow? 231.
bokus.com: Nano Lithography - Stefan Landis - Bok ( ) | Bokus
Köp Nano Lithography av Stefan Landis. Skickas inom vardagar. Fri frakt över 199 kr. Välkommen till Bokus bokhandel!
Martin Kogelschatz | XanEdu Customization Platform
www.academicpub.com
Author: Martin Kogelschatz. Results. Growth and characterization of gold catalyzed SiGe nanowires and alternative metal-catalyzed Si nanowires.
Dokumente zum Namen
Aspect ratio dependent deposition to improve gate spacer profile,...
www.freepatentsonline.com
Techniques disclosed herein include systems and methods for an aspect ratio dependent deposition process that improves gate spacer profile, reduces fin loss,...
Nanoâ•'characterization of switching mechanism in ...John Wiley
onlinelibrary.wiley.com
von T Dewolf · · Zitiert von: 7 — Chevalier (1), Helen Grampeix (1), Christelle Charpin (1), Eric Jalaguier (1), Martin Kogelschatz (2),. Sylvie Schamm-Chardon (3), Guillaume Audoit (1).
FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies - Recherche simple
jeannicod.ccsd.cnrs.fr
Martin Kogelschatz (1) ... Martin Kogelschatz. Etude des interactions plasma–surface pendant la gravure du silicium dans des plasmas HBr/Cl2/O2 Micro et ...
Báo cáo hóa học: " Growth and characterization of gold catalyzed SiGe...
123docz.net
Martin Kogelschatz. 1. , Pascal Gentile. 2. , Fabrice Oehler. 2. , Laurent Montès. 3. , Jens Kreisel. 4. , Hervé Roussel. 4. Abstract. The growth of semiconductor ...
Wissenschaftliche Veröffentlichungen
Surface Analysis during Plasma Etching by LaserInstitute of Physics
iopscience.iop.org
von IP Herman · · Zitiert von: 17 — Martin Kogelschatz, Gilles Cunge and. Nader Sadeghi. -. Spatial distribution of SiCln (n=0–2) in · SiCl4 plasma measured by mass.
Veröffentlichungen allgemein
Bounds for the Frobenius Root of Non-Negative Matrices ...Springer
link.springer.com
von HM Kogelschatz — Bounds for the Frobenius Root of Non-Negative Matrices and an Economic Application. Hartmut Martin Kogelschatz. Chapter Accesses ...
theses.fr – Martin Kogelschatz , Etude des interactions...
www.theses.fr
L'OBJECTIF DE CE TRAVAIL EST DE COMPRENDRE LES INTERACTIONS PLASMA-SURFACE PENDANT LA GRAVURE DU SILICIUM DANS DES CHIMIES HBr/CI2I02. DANS CES PROCEDES, UNE...
Atomic Force Microscopy - Thèses de l'INSA - INSA Lyontheses.insa-lyon.fr › these
theses.insa-lyon.fr
Composition du jury : Jacques COUSTY, Didier GOGUENHEIM, Martin KOGELSCHATZ, Abdelkader SOUIFI, Brice GAUTIER, Liviu. MILITARU, Richard ...
Sonstiges
Martin Kogelschatz - Lyon Area, France | Professional Profile ...www.linkedin.com › pub › martin-...
www.linkedin.com
View Martin Kogelschatz's professional profile on LinkedIn. LinkedIn is the world's largest business network, helping professionals like Martin ...
Martin Kogelschatz - Academia.edu
independent.academia.edu
Academia.edu is a place to share and follow research.
Martin KOGELSCHATZUniversité Côte d'Azur
univ-cotedazur.fr
Martin Kogelschatz. Coordonnées. Fax: + ; . Une erreur s'est produite pendant la récupération de la ...
Characterization of High-k Bilayer Gate Stack Breakdown ...Université Grenoble Alpes
hal.univ-grenoble-alpes.fr
von M Kogelschatz · — Martin Kogelschatz (1) , Romain Foissac (2) , Serge Blonkowski (3). Afficher plus de détails. 1 LSP - Laboratoire de Spectrométrie Physique
Connecting TalentsGrenoble IAE
www.grenoble-iae.fr
UGA Éditions, l'éditeur de l'Université Grenoble Alpes; MARTIN KOGELSCHATZ · EMILIE KOHLMANN
Journal de Physique II
jp2.journaldephysique.org
Journal de Physique II, Journal de Physique Archives représente une mine dinformations facile à consulter sur la manière dont la physique a été publiée depuis...
Copie de Practical Work21Esonn
www.esonn.fr
Martin Kogelschatz & Mariem Ben Youssef, LTM/CNRS-UGA. (PDF). 68: Cell polarization on rigidity-patterned substrates. Sara Bouizakarne & Alice Nicolas, ...
(PDF) Impact of bilayer character on High K gate stack dielectrics...
www.academia.edu
Impact of bilayer character on High K gate stack dielectrics breakdown obtained by conductive atomic force microscopy
Nanoscale Research Letters | Articles
nanoscalereslett.springeropen.com
Authors: Alexis Potié, Thierry Baron, Florian Dhalluin, Guillaume Rosaz, Bassem Salem, Laurence Latu-Romain, Martin Kogelschatz, Pascal Gentile, Fabrice ...
Journal de Physique
jphys.journaldephysique.org
Journal de Physique, Journal de Physique Archives représente une mine d informations facile à consulter sur la manière dont la physique a été publiée depuis...
Microélectronique - FMNT Fédération des Micro et ...fmnt.fr
fmnt.fr
Animateurs : Ioana Vatajelu (TIMA), Frédérique Ducroquet (IMEP-LaHC), Martin Kogelschatz (LTM). A+Augmenter la taille du texteA-Réduire la taille du ...
BILAN juin MINATEC Bât BCAI- Bilan 1 - PDF Téléchargement Gratuit
docplayer.fr
27 Bilan Plates-formes Plateforme Microsystèmes Nombre de lycéens sur la plateforme 8 Nombre de sessions lycéens 1 Nombre de sessions profs 1 Nombre d encadrants 1 Nombre d heures d encadrement 5h UN GRAND MERCI A L INTERVENANT : - Martin Kogelschatz (UJF-Polytech) Ainsi qu au ...
Nano-LithographyIste.co.uk
www.iste.co.uk
Patterning with Self-Assembling Block Copolymers, Karim Aissou, Martin Kogelschatz, Claire Agraffeil, Alina Pascale and Thierry Baron.
Plasma-wall interactions during silicon etching processes ...Inserm
www.hal.inserm.fr
von G Cunge · · Zitiert von: 62 — Plasma-wall interactions during silicon etching processes in high-density HBr/Cl2/O2 plasmas. Gilles Cunge (1) , Martin Kogelschatz (2) , Olivier Joubert ...
Etude des interactions plasma–surface pendant la gravure du silicium...
dumas.ccsd.cnrs.fr
L'objectif de ce travail est de comprendre les interactions plasma-surface pendant la gravure du silicium dans des chimies HBr/Cl2/O2. Dans ces procédés, une...
SWI/SNF Enzymes - alexnegri.comalexnegri.com
ezimp.alexnegri.com
... and that are mis-regulated in ∼20% of human cancers. martin kitchener cardiff university swi/snf nzymes questions martin kogelschatz Montgomery County, ...
Etude des interactions plasma–surface pendant la gravure du ...tel.archives-ouvertes.fr › tel
tel.archives-ouvertes.fr
Citation. Martin Kogelschatz. Etude des interactions plasma–surface pendant la gravure du silicium dans des plasmas HBr/Cl2/O2. Micro et ...
Self-assembling study of a cylinder-forming block ...Archive ouverte HAL
hal.archives-ouvertes.fr
Self-assembling study of a cylinder-forming block copolymer via a nucleation-growth mechanism. Karim Aissou (1, 2, 3) , Martin Kogelschatz (3) ...
Growth and characterization of gold catalyzed SiGe nanowires and...
nanoscalereslett.springeropen.com
Alexis Potié; , Thierry Baron; , Florian Dhalluin; , Guillaume Rosaz; , Bassem Salem; , Laurence Latu-Romain; & Martin Kogelschatz.
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