Rainer Labitzke und Plasma - Info zur Person

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OTTI Vakuum - Fraunhofer FEP

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Rainer Labitzke Fraunhofer-Institut für Elektronenstrahl- und Plasmatechnik FEP »Technologische Stromversorgungen für Plasma- und ...

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2. DC펄스 스퍼터링 공정 변수가 다층 박막의 광 반사율에 미치는 영향123dok.co › 기타

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[6] Stephan Barth , Hagen Bartzsch, Daniel Glos, Peter Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke,"Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by ...

DC펄스 스퍼터링 공정 변수가 다층 박막의 광 반사율에 ...kais99.org

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von 정연길 · — Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke,"Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by pulsed powering in unipolar/bipolar hybrid pulse mode",.

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한국산학기술학회

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von 정연길 — [6] Stephan Barth , Hagen Bartzsch, Daniel Glos, Peter Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke,"Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by ...

Device for generating a hollow cathode arc discharge plasmapatents.google.com › patent

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Other languages: German: French; Inventor: Henry Morgner: Gösta MATTAUSCH: Christoph Metzner: Michael Junghähnel: Rainer Labitzke: Lars Klose: Lars Werner ...

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... Rainer Labitzke, DE, Dresden, APPARATUS FOR GENERATING A HOLLOW CATHODE ARC DISCHARGE PLASMA, 1. Boris Labkovsky, US, Wales,

Effect of process parameter of DC pulsed sputtering on optical ...

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von YG Chung · · Zitiert von: 1 — Stephan Barth , Hagen Bartzsch, Daniel Glos, Peter Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke,"Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by ... › ar...

Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by pulsed ...www.infona.pl › resource

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Stephan Barth, Hagen Bartzsch, Daniel Glöß, Peter Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke · Details · Contributors · Fields of science · Bibliography · Quotations ...

Labitzke - Patent applicationspatentsencyclopedia.com

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Rainer Labitzke, Dresden DE. Patent application number, Description, Published , APPARATUS FOR GENERATING A HOLLOW CATHODE ARC DISCHARGE PLASMA ...

Plasmaphysikalische Charakterisierung einer ...Qucosa - TU Dresden

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von B Zimmermann · Zitiert von: 1 — Rainer Labitzke trug durch Betreuung und. Weiterentwicklung der Leistungselektronik für das Betreiben der Hohlkathodenentladung zum reibungslosen ...

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... ß ; Peter Frach ; Matthias Gittner ; Rainer Labitzke. 关键词：Pulse magnetron sputtering ; Sputter deposition ; Plasma properties ; Stress control ; AlN.

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... ß ; Peter Frach ; Matthias Gittner ; Rainer Labitzke. 关键词：Pulse magnetron sputtering ; Sputter deposition ; Plasma properties ; Stress control ; AlN.

[논문]DC펄스 스퍼터링 공정 변수가 다층 박막의 광 반사율에 미치는 ...scienceon.kisti.re.kr › srch › selectPORSrchArticle

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Stephan Barth , Hagen Bartzsch, Daniel Glos, Peter Frach, Matthias Gittner, Rainer Labitzke,"Adjustment of plasma properties in magnetron sputtering by ...

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36.112.18.19

... ß ; Peter Frach ; Matthias Gittner ; Rainer Labitzke. 关键词：Pulse magnetron sputtering ; Sputter deposition ; Plasma properties ; Stress control ; AlN.

[PDF] Plasmaphysikalische Charakterisierung Qucosa - TU Dresdentud.qucosa.de › api › qucosa: › attachment › ATT-0

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Rainer Labitzke trug durch Betreuung und. Weiterentwicklung der Leistungselektronik für das Betreiben der Hohlkathodenentladung.

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