Tim Fühner - Netzwerk-Profile - alle Infos bei Yasni.de

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Artificial Evolution for the Optimization of Lithographic Process Conditions (2014); Tim Fühner: Miniaturization is a driving force both for the performance and for ...

Tim Fühner - CRIS.FAU.DE - Current Research Information System of FAU...

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Christoph, D., Fühner, T., Tollkühn, B., Erdmann, A., & Kókai, G. (2007). Application of a memetic algorithm to the calibration of micro-lithography. In Grosan ...

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Authors: Bernd Tollkühn, Tim Fühner , Daniela Matiut, Andreas Erdmann, Armin Semmler, Bernd Küchler, Gabriella Kókai Methodology and

Pixel-based defect detection from high-NA optical projection images

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Pixel-based defect detection from high-NA optical projection images. Dongbo Xu, Tim Fühner, and Andreas Erdmann. Author Information ...

Levet-set-based inverse lithography under random field shape...

opg.optica.org

Levet-set-based inverse lithography under random field shape uncertainty in a vector Hopkins imaging model. Xiaofei Wu, Tim Fühner, Andreas Erdmann, and ...

Microelectronic Engineering | Micro and Nanofabrication Breakthroughs...

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Andreas Erdmann, Tim Fühner, Peter Evanschitzky, Viviana Agudelo, ... Dongbo Xu. Pages : Download PDF. Article preview. select article Nanoimprint ...

dblp: Andreas Erdmann

dblp.uni-trier.de

List of computer science publications by Andreas Erdmann

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Extending Lithography with Advanced Materials - PDF Free Download

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Process window analysis for contact hole shrinking: A simulation study Andreas Erdmann 1, Przemysław Michalak 1, Mohamed Ismail 1,2, Tim Fühner 1, ...

OSA | AO Vol. 53 Iss. 18

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Dongbo Xu, Tim Fühner, and Andreas Erdmann. Appl. Opt. 53(18), (2014) View: HTML | PDF · Two-channel multiresolution refocusing imaging ...

Pixel-based defect detection from high-NA optical projection images |...

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Pixel-based defect detection from high-NA optical projection images. Dongbo Xu, Tim Fühner, Andreas Erdmann. Applied Optics June 20, 53 (18):

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